一、總體要求
“半導體物理、器件物理與集成電路”(801)由半導體物理、半導體器件物理和數(shù)字集成電路三部分組成,半導體物理占60%(90分)、器件物理占20%(30分)、集成電路各占20%(30分)。
“半導體物理”要求學生熟練掌握半導體的相關基礎理論,了解半導體性質以及受外界因素的影響及其變化規(guī)律。重點掌握半導體中的電子狀態(tài)和帶、半導體中的雜質和缺陷能級、半導體中載流子的統(tǒng)計分布、半導體的導電性、半導體中的非平衡載流子等相關知識、基本概念及相關理論,掌握半導體中載流子濃度計算、電阻(導)率計算以及運用連續(xù)性方程解決載流子濃度隨時間或位置的變化及其分布規(guī)律等。
“器件物理”要求學生掌握MOSFET器件物理的基本理論和基本的分析方法,使學生具備基本的器件分析、求解、應用能力。要求掌握MOS基本結構和電容電壓特性;MESFET器件的基本工作原理;MOSFET器件的頻率特性;MOSFET器件中的非理想效應;MOSFET器件按比例縮小理論;閾值電壓的影響因素;MOSFET的擊穿特性;掌握器件特性的基本分析方法。
“數(shù)字集成電路”要求考生應深入理解數(shù)字集成電路的相關基礎理論,掌握數(shù)字集成電路電路、系統(tǒng)及其設計方法。重點掌握數(shù)字集成電路設計的質量評價、相關參量;能夠設計并定量分析數(shù)字集成電路的核心——反相器的完整性、性能和能量指標;掌握CMOS組合邏輯門的設計、優(yōu)化和評價指標;掌握基本時序邏輯電路的設計、優(yōu)化、不同形式時序器件各自的特點,時鐘的設計策略和影響因素;定性了解MOS器件;掌握并能夠量化芯片內(nèi)部互連線參數(shù)。
“半導體物理、器件物理與集成電路”(801)研究生入學考試是所學知識的總結性考試,考試水平應達到或超過本科專業(yè)相應的課程要求水平。
二、各部分復習要點
●“半導體物理”部分各章復習要點
(一)半導體中的電子狀態(tài)
1.復習內(nèi)容
半導體晶體結構與化學鍵性質,半導體中電子狀態(tài)與能帶,電子的運動與有效質量,空穴,回旋共振,元素半導體和典型化合物半導體的能帶結構。
2.具體要求
半導體中的電子狀態(tài)和能帶
半導體中電子的運動和有效質量
本征半導體的導電機構
空穴的概念
回旋共振及其實驗結果
Si、Ge和典型化合物半導體的能帶結構
(二)半導體中雜志和缺陷能級
1.復習內(nèi)容
元素半導體中的雜質能級,化合物半導體中的雜質能級、位錯和缺陷能級。
2.具體要求
Si和Ge晶體中的雜質能級
雜質的補償作用
深能級雜質
Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體中的雜質能級
等電子雜質與等電子陷阱
半導體中的缺陷與位錯能級
(三)半導體中載流子的統(tǒng)計分布
1.復習內(nèi)容
狀態(tài)密度,F(xiàn)ermi能級,載流子統(tǒng)計分布,本征和雜質半導體的載流子濃度,補償半導體的載流子濃度,簡并半導體
2.具體要求
狀態(tài)密度的定義與計算
費米能級和載流子的統(tǒng)計分布
本征半導體的載流子濃度
雜質半導體的載流子濃度
雜質補償半導體的載流子濃度
簡并半導體及其載流子濃度、簡并化條件、簡并半導體的特點與雜質帶導電
載流子濃度的分析計算方法及其影響載流子濃度的因素
(四)半導體的導電性
1.復習內(nèi)容
載流子的漂移運動,遷移率,載流子的散射,遷移率與雜質濃度和溫度的關系,電阻率與雜質濃度和溫度的關系,強場效應與熱載流子
2.具體要求
載流子漂移運動
遷移率
載流子散射
半導體中的各種散射機制
遷移率與雜質濃度和溫度的關系
電阻率及其與雜質濃度和溫度的關系
強電場下的效應
高場疇區(qū)與Gunn效應;
(五)非平衡載流子
1.復習內(nèi)容
非平衡載流子的產(chǎn)生與復合,非平衡載流子壽命,準費米能級,復合理論,陷阱效應,非平衡載流子載流子的擴散與漂移,愛因斯坦關系,連續(xù)性方程。
2.具體要求
非平衡載流子的注入與復合
準費米能級
非平衡載流子的壽命
復合理論
陷阱效應
載流子的擴散運動
載流子的漂移運動
Einstein關系
連續(xù)性方程的建立及其應用
●“器件物理”部分各章復習要點
(一)金屬-氧化物-半導體場效應結構物理基礎
1.復習內(nèi)容
MOS結構的物理性質,能帶結構與空間電荷區(qū),平帶電壓與閾值電壓,電容電壓特性
2.具體要求
MOS結構的物理性質
n型和p型襯底MOS電容器的能帶結構
耗盡層厚度的計算
功函數(shù)的基本概念以及金屬-半導體功函數(shù)差的計算方法
平帶電壓的定義與求解;閾值電壓的影響因素;
MOS電容的定義,理想的C-V特性;影響C-V特性的主要因素
(二)MOSFET基本工作原理
1.復習內(nèi)容
MOSFET基本結構,MOSFET電流電壓關系,襯底偏置效應。MOSFET的頻率特性。閂鎖現(xiàn)象
2.具體要求
MOSFET電流電壓關系的定性分析,漏極電流與柵壓之間的關系;
襯偏效應的概念及影響
小信號等效電路的概念與分析方法
MOSFET器件頻率特性的影響因素
CMOS基本技術及閂鎖現(xiàn)象
(三)MOSFET器件的深入概念
1.復習內(nèi)容
MOSFET中的非理想效應;MOSFET的按比例縮小理論;小尺寸器件的閾值電壓;MOSFET器件的擊穿特性
2.具體要求
理解實際器件與理想特性之間的偏差及其原因
器件按比例縮小的基本方法動態(tài)電路方程及其求解
短溝道效應與窄溝道效應對MOSFET器件閾值電壓的影響
MOSFET器件的各種擊穿模式,擊穿電壓的影響因素
●“數(shù)字集成電路”部分各章復習要點
“數(shù)字集成電路”考試范圍及要點包括:數(shù)字集成電路設計質量評價的基本要素;CMOS集成電路設計規(guī)則與工藝縮??;二極管基本結構、參數(shù)、靜態(tài)特性、動態(tài)特性、二極管分析模型;MOS晶體管基本結構、閾值電壓、亞閾值特性、工作區(qū)、溝道長度調(diào)制、速度飽和、MOS晶體管分析模型;反相器靜態(tài)特性、開關閾值、噪聲容限、穩(wěn)定性,反相器動態(tài)特性、電容構成,傳播延遲分析與尺寸計算、反相器靜態(tài)功耗、動態(tài)功耗;靜態(tài)互補CMOS組合邏輯門設計、尺寸設計、延遲計算與優(yōu)化,有比邏輯基本原理、傳輸管邏輯基本原理;動態(tài)CMOS設計基本原理、信號完整性問題及其速度與功耗;時序邏輯器件時間參數(shù)、靜態(tài)鎖存器和寄存器的工作原理、C2MOS寄存器結構與特性;時鐘的設計策略和影響因素;導線中的傳輸線效應,電容寄生效應、電阻寄生效應。
(一)數(shù)字集成電路基本概念和質量評價
1.復習內(nèi)容
數(shù)字集成電路設計中的基本概念、面臨問題和質量評價標準
2.具體要求
設計約束
時鐘設計
電源網(wǎng)絡
設計質量評定標準
集成電路成本構成
電壓傳輸特性
噪聲容限
再生性
扇入扇出
傳播延遲
功耗、能耗
設計規(guī)則
標準單元
工藝偏差
工藝尺寸縮小
封裝
(二)器件
1.復習內(nèi)容
定性了解二極管、MOS晶體管,理解其工作原理,靜態(tài)特性、動態(tài)特性;掌握SPICE模型和手工分析模型。
2.具體要求
二極管結構
二極管靜態(tài)特性
二極管動態(tài)特性
二極管手工分析模型
二極管SPICE模型
MOS晶體管結構
MOS晶體管工作區(qū)
MOS晶體管靜態(tài)特性、閾值電壓、溝道長度調(diào)制、速度飽和
MOS晶體管亞閾值特性
MOS晶體管動態(tài)特性
MOS晶體管電容構成
熱載流子效應
CMOS閂鎖效應
MOS晶體管SPICE模型
MOS晶體管手工分析模型
(三)導線
1.復習內(nèi)容
互連線的電路模型,SPICE模型,確定并定量化互連參數(shù);傳輸線效應;互連線的信號完整性
2.具體要求
互連參數(shù)
互連線電容寄生效應
互連線電阻寄生效應
互連線電感寄生效應
趨膚效應
互連線集總模型
互連線分布模型
(四)CMOS反相器
1.復習內(nèi)容
反相器設計;反相器完整性、性能、能量指標的定量分析及其優(yōu)化。
2.具體要求
CMOS反相器靜態(tài)特性、開關閾值、噪聲容限、穩(wěn)定性
CMOS反相器動態(tài)特性
CMOS反相器電容計算
CMOS反相器傳播延遲分析
CMOS反相器網(wǎng)絡設計
CMOS反相器功耗、動態(tài)功耗、靜態(tài)功耗
MOS反相器低功耗設計技術
能量延時積
(五)CMOS組合邏輯門設計
1.復習內(nèi)容
掌握CMOS邏輯設計,包括動態(tài)和靜態(tài)邏輯、傳輸管邏輯、無比邏輯、有比邏輯;能夠優(yōu)化CMOS邏輯的管子尺寸、面積、速度、穩(wěn)定性和能耗;掌握低功耗邏輯設計技術
2.具體要求
靜態(tài)互補CMOS設計、靜態(tài)特性、傳播延時、尺寸設計與性能優(yōu)化
有比邏輯概念
傳輸管邏輯概念、傳輸特性、穩(wěn)定性、性能
動態(tài)邏輯基本原理、速度、功耗、信號完整性
多米諾邏輯概念、設計、優(yōu)化
(六)時序邏輯電路設計
1.復習內(nèi)容
時序邏輯基本部件——寄存器、鎖存器、觸發(fā)器設計實現(xiàn)技術;靜態(tài)、動態(tài)時序邏輯比較;振蕩器、施密特觸發(fā)器設計實現(xiàn)技術;時鐘策略
2.具體要求
時序電路的時間參數(shù)::建立時間、保持時間、傳播延時
雙穩(wěn)態(tài)原理
多路開關性鎖存器
主從邊沿觸發(fā)寄存器
靜態(tài)SR觸發(fā)器
動態(tài)傳輸門邊沿觸發(fā)寄存器
C2MOS寄存器
真單相鐘控寄存器
脈沖寄存器
流水線概念
流水線型邏輯
施密特觸發(fā)器
單穩(wěn)時序電路
不穩(wěn)電路
時鐘策略、時鐘偏差、時鐘抖動、時鐘誤差來源
三、試卷結構與考試方式
1、題型結構:名詞解釋、簡答題、問答題、計算題、判斷題、繪圖題等。試卷滿分為150分。
2、考試方式:閉卷,考試必須按照規(guī)定攜帶不具備編程和存儲功能的函數(shù)計算器。
3、考試時間:180分鐘。
參考書目
1、《半導體物理學》第4版,劉恩科、朱秉升、羅晉生等著,國防工業(yè)出版社,1994年。
2、《半導體物理與器件》(第三版)趙毅強等譯 電子工業(yè)出版社 2005年。
3、《數(shù)字集成電路—電路、系統(tǒng)與設計》(第二版),Rabaey等著,周潤德等譯,電子工業(yè)出版社 2004年。
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